Publication:
สภาวะความดันแก๊สที่เหมาะสมสำหรับการเคลือบฟิลม์บางไทเทเนียมไนไตรด์ด้วยวิธีสปัตเตอริง

Simple item page
dc.contributor.authorภารุจ บัณทิธาดาวิทย์
dc.contributor.orgunitคณะวิทยาศาสตร์
dc.date.accessioned2025-08-14T10:23:40Z
dc.date.issued1994
dc.date.issuedBE2539
dc.descriptionปริญญานิพนธ์ (วท.ม.(ฟิสิกส์)) -- มหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ ประสานมิตร, 2539.
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.14740/47184
dc.language.isotha
dc.rightsผลงานนี้เผยแพร่ภายใต้ สัญญาอนุญาตครีเอทีฟคอมมอนส์แบบ แสดงที่มา-ไม่ใช้เพื่อการค้า-ไม่ดัดแปลง 4.0 (CC BY-NC-ND 4.0)
dc.rights.holderมหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ
dc.subject.thashการชุบเคลือบผิวโลหะ
dc.subject.thashฟิลม์บาง
dc.titleสภาวะความดันแก๊สที่เหมาะสมสำหรับการเคลือบฟิลม์บางไทเทเนียมไนไตรด์ด้วยวิธีสปัตเตอริง
dc.title.alternativeOptimum gas pressure condittion for deposition of titaniumnitride thin films by suttering method
dc.typeThesis
dcterms.accessRightsOpen Access
dspace.entity.typePublication
swu.docNo154455
thesis.degree.grantorมหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ
thesis.degree.levelปริญญาโท
thesis.degree.nameวท.ม. (ฟิสิกส์)

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
Parut_B.pdf
Size:
2.21 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Bitstream uploaded from Aleph
Download

Collections

SCI: Theses