Publication:
สภาวะความดันแก๊สที่เหมาะสมสำหรับการเคลือบฟิลม์บางไทเทเนียมไนไตรด์ด้วยวิธีสปัตเตอริง

0
0

Files

Parut_B.pdf (2.21 MB)

Issued Date

1994

Resource Type

Thesis

Language

tha

File Type

application/pdf

Access Rights

Open Access

Rights

ผลงานนี้เผยแพร่ภายใต้ สัญญาอนุญาตครีเอทีฟคอมมอนส์แบบ แสดงที่มา-ไม่ใช้เพื่อการค้า-ไม่ดัดแปลง 4.0 (CC BY-NC-ND 4.0)

Rights Holder(s)

มหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ

Suggested Citation

ภารุจ บัณทิธาดาวิทย์ (1994). สภาวะความดันแก๊สที่เหมาะสมสำหรับการเคลือบฟิลม์บางไทเทเนียมไนไตรด์ด้วยวิธีสปัตเตอริง. สืบค้นจาก: https://hdl.handle.net/20.500.14740/47184

Title

สภาวะความดันแก๊สที่เหมาะสมสำหรับการเคลือบฟิลม์บางไทเทเนียมไนไตรด์ด้วยวิธีสปัตเตอริง

Alternative Title(s)

Optimum gas pressure condittion for deposition of titaniumnitride thin films by suttering method

Author(s)

ภารุจ บัณทิธาดาวิทย์

Organization

คณะวิทยาศาสตร์

Description

ปริญญานิพนธ์ (วท.ม.(ฟิสิกส์)) -- มหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ ประสานมิตร, 2539.

Degree Name

วท.ม. (ฟิสิกส์)

Degree Level

ปริญญาโท

Degree Grantor(s)

มหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ

Thai Subject Heading(s)

การชุบเคลือบผิวโลหะ
 ฟิลม์บาง

View online Resources

Research Projects

Organizational Units

Journal Issue

URI

https://hdl.handle.net/20.500.14740/47184

Collections

SCI: Theses

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By