วิธีการสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงทางเคมีแนวระนาบแบบจุลภาค

DSpace Home
→
Patents
→
Patents
→
View Item

dc.date.accessioned	2022-07-20T14:40:44Z
dc.date.available	2022-07-20T14:40:44Z
dc.date.issued	2558
dc.identifier.uri	https://ir.swu.ac.th/jspui/handle/123456789/22610
dc.language	th
dc.publisher	กรมทรัพย์สินทางปัญญา
dc.subject	สิทธิบัตร
dc.title	วิธีการสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงทางเคมีแนวระนาบแบบจุลภาค
dc.type	Patent
dc.contributor.inventor	โอภาส ตรีทวีศักดิ์
dc.contributor.inventor	มติ ห่อประทุม
dc.contributor.inventor	นิธิ อัตถิ
dc.contributor.inventor	จักรพงศ์ ศุภเดช
dc.contributor.inventor	ชาญเดช หรูอนันต์
dc.contributor.inventor	อัมพร โพธิ์ใย
dc.contributor.inventor	ภูณิศรา ลิ้มนนทกุล
dc.contributor.inventor	ณัฐวุฒิ เชิงชื่น
dc.contributor.inventor	กาญจนา อุไรสินธว์
dc.contributor.inventor	ดวงใจ นาคะปรีชา
dc.contributor.assignee	สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
dc.contributor.assignee	มหาวิทยาลัยมหิดล
dc.contributor.assignee	สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง
dc.contributor.assignee	มหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ
dc.description.abstractthai	การประดิษฐ์นี้เป็นการสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงแบบจุลภาค โดยใช้เทคนิคการกัดแบบพลาสมา อย่างลึก (Deep Reactive Ion Etching) ให้เกิดเป็นช่องสำหรับเติมสารละลายในแผ่นซิลิกอน และใช้ ฟิล์มฉนวนบางแบบแขวนลอยทำหน้าที่เป็นเยื่อหรือเมมเบรนให้น้ำในสารละลายแพร่ผ่านได้ การประดิษฐ์นี้เป็นการสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงแบบจุลภาค โดยใช้เทคนิคการกัดแบบพลาสมา อย่างลึก (Deep Reactive Ion Etching) ให้เกิดเป็นช่องสำหรับเติมสารละลายในแผ่นซิลิกอน และใช้ ฟิล์มฉนวนบางแบบแขวนลอยทำหน้าที่เป็นเยื่อหรือเมมเบรนให้น้ำในสารละลายแพร่ผ่านได้