Please use this identifier to cite or link to this item: https://ir.swu.ac.th/jspui/handle/123456789/22610
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.date.accessioned2022-07-20T14:40:44Z-
dc.date.available2022-07-20T14:40:44Z-
dc.date.issued2558-
dc.identifier.urihttps://ir.swu.ac.th/jspui/handle/123456789/22610-
dc.languageth-
dc.publisherกรมทรัพย์สินทางปัญญา-
dc.subjectสิทธิบัตร-
dc.titleวิธีการสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงทางเคมีแนวระนาบแบบจุลภาค-
dc.typePatent-
dc.contributor.inventorโอภาส ตรีทวีศักดิ์-
dc.contributor.inventorมติ ห่อประทุม-
dc.contributor.inventorนิธิ อัตถิ-
dc.contributor.inventorจักรพงศ์ ศุภเดช-
dc.contributor.inventorชาญเดช หรูอนันต์-
dc.contributor.inventorอัมพร โพธิ์ใย-
dc.contributor.inventorภูณิศรา ลิ้มนนทกุล-
dc.contributor.inventorณัฐวุฒิ เชิงชื่น-
dc.contributor.inventorกาญจนา อุไรสินธว์-
dc.contributor.inventorดวงใจ นาคะปรีชา-
dc.contributor.assigneeสำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ-
dc.contributor.assigneeมหาวิทยาลัยมหิดล-
dc.contributor.assigneeสถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง-
dc.contributor.assigneeมหาวิทยาลัยศรีนครินทรวิโรฒ-
dc.description.abstractthaiการประดิษฐ์นี้เป็นการสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงแบบจุลภาค โดยใช้เทคนิคการกัดแบบพลาสมา อย่างลึก (Deep Reactive Ion Etching) ให้เกิดเป็นช่องสำหรับเติมสารละลายในแผ่นซิลิกอน และใช้ ฟิล์มฉนวนบางแบบแขวนลอยทำหน้าที่เป็นเยื่อหรือเมมเบรนให้น้ำในสารละลายแพร่ผ่านได้ การประดิษฐ์นี้เป็นการสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงแบบจุลภาค โดยใช้เทคนิคการกัดแบบพลาสมา อย่างลึก (Deep Reactive Ion Etching) ให้เกิดเป็นช่องสำหรับเติมสารละลายในแผ่นซิลิกอน และใช้ ฟิล์มฉนวนบางแบบแขวนลอยทำหน้าที่เป็นเยื่อหรือเมมเบรนให้น้ำในสารละลายแพร่ผ่านได้-
Appears in Collections:Patents

Files in This Item:
File SizeFormat 
patent0901002164.pdf437.4 kBPDFView/Open


Items in SWU repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.